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小型磁控射頻濺射鍍膜儀

起訂量: 面議
價(jià) 格: 面議
品牌: 小型磁控射頻濺射鍍膜儀
供貨總量: 面議
發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
所在地: 河南鄭州市
有效期至: 長期有效
最后更新: 2022-04-13 11:55
關(guān)注人數(shù): 2088
公司基本資料信息
河南泰興糧機(jī)
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地區(qū)河南 鄭州市
地址河南省鄭州市高新區(qū)蓮花街河南工業(yè)大學(xué)工程訓(xùn)練中心
  • 品牌:
    小型磁控射頻濺射鍍膜儀
  • 發(fā)貨期限:
    自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
  • 所在地:
    河南鄭州市
小型磁控射頻濺射鍍膜儀是一款小型臺(tái)式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型),配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,此款設(shè)備主要用于制作非導(dǎo)電薄膜,特別是一些氧化物薄膜。對(duì)于新型非導(dǎo)電薄膜的探索,它是一款廉價(jià)并且高效的實(shí)驗(yàn)幫手。  
我們用此設(shè)備得到擇**取向的ZnO薄膜  
技術(shù)參數(shù)  
輸入電源  
220VAC50/60Hz,單相  
800W(包括真空泵)  
等離子源  
一個(gè)100W,13.5MHz的射頻電源安裝在移動(dòng)柜內(nèi)  
配有一13.5MHz,100W的射頻電源(采用手動(dòng)匹配)  
可選配300W射頻電源(自動(dòng)匹配)  
注意:100W手動(dòng)調(diào)節(jié)的RF(射頻)電源價(jià)格較低,但是每一次對(duì)于不同的靶材,都需要手動(dòng)設(shè)置參數(shù)才能產(chǎn)生等離子體,比較耗費(fèi)時(shí)間。300W自動(dòng)匹配的RF(射頻)電源,價(jià)格較昂貴,但比較節(jié)約時(shí)間。  
(點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料)  
磁控濺射頭  
一個(gè)1英寸磁控濺射頭(帶有水冷夾層),采用快速接頭與真空腔體相連接  
靶材尺寸:直徑為25.4mm,zui大厚度3mm  
一個(gè)快速擋板安裝在法蘭上(手動(dòng)操作,見圖左3)  
濺射頭所需冷卻水:流速10ml/min(儀器中配有一臺(tái)流速為16ml/min的循環(huán)水冷機(jī))  
同時(shí)可選配2英寸濺射頭  
選配2英寸濺射頭靶材尺寸:直徑為50.8mm,zui大厚度6mm  
真空腔體  
真空腔體:160mmODx150mmIDx250mmH,采用高純石英制作  
密封法蘭:直徑為165mm.采用金屬鋁制作,采用硅膠密封圈密封  
一個(gè)不銹鋼網(wǎng)罩住整個(gè)石英腔體,以屏蔽等離子體  
真空度:<1.0*10-2Torr(采用雙極旋片真空泵)  
<5*10-5torr(采渦旋分子泵)  
載樣臺(tái)  
載樣臺(tái)可旋轉(zhuǎn)(為了制膜更加均勻)并可加熱  
載樣臺(tái)尺寸:直徑50mm(zui大可放置2英寸的基片)  
旋轉(zhuǎn)速度:1-20rpm  
樣品臺(tái)的zui高加熱溫度為700℃(短期使用,恒溫不超過1小時(shí)),長期使用溫度500℃  
控溫精度+/-10℃
本產(chǎn)品信息由中美合資合肥科晶材料技術(shù)有限公司整理發(fā)布,更多關(guān)于小型磁控射頻濺射鍍膜儀的信息請(qǐng)?jiān)L問:
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