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上海伯東代理美國原裝進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH 400

起訂量: 面議
價 格: 面議
品牌: KRI
供貨總量: 面議
發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
所在地: 上海
有效期至: 長期有效
最后更新: 2023-04-10 14:08
關(guān)注人數(shù): 1167
公司基本資料信息
伯東企業(yè)(上海)有限公司
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地區(qū)上海
地址上海市外高橋保稅區(qū)希雅路33號17號樓B座3層,200131
  • 品牌:
    KRI
  • 發(fā)貨期限:
    自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
  • 所在地:
    上海
霍爾離子源 eH 400

美國 KRI 霍爾離子源 eH 400
上海伯東代理美國原裝進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH 400 低成本設(shè)計提供高離子電流, 霍爾離子源 eH 400 尺寸和離子能量特別適合中小型的真空系統(tǒng), 可以控制較低的離子能量, 通常應(yīng)用于離子輔助鍍膜, 預(yù)清洗和低能量離子蝕刻.
尺寸: 直徑= 3.7“  高= 3”
放電電壓 / 電流: 50-300eV / 5a
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機(jī)前體
KRI 霍爾離子源 eH 400 特性
• 可拆卸陽極組件 - 易于維護(hù); 維護(hù)時, **大限度地減少停機(jī)時間; 即插即用備用陽極
• 寬波束高放電電流 - 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
• 多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng)
• 等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制
KRI 霍爾離子源 eH 400 技術(shù)參數(shù):

型號

eH 400 / eH 400 LEHO

供電

DC magnetic confinement

  - 電壓

40-300 V VDC

 - 離子源直徑

~ 4 cm

 - 陽極結(jié)構(gòu)

模塊化

電源控制

eHx-3005A

配置

-

  - 陰極中和器

Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode

  - 離子束發(fā)散角度

> 45° (hwhm)

  - 陽極

標(biāo)準(zhǔn)或 Grooved

  - 水冷

前板水冷

  - 底座

移動或快接法蘭

  - 高度

3.0'

  - 直徑

3.7'

  - 加工材料

金屬
電介質(zhì)
半導(dǎo)體

  - 工藝氣體

Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

  - 安裝距離

6-30”

  - 自動控制

控制4種氣體

* 可選: 可調(diào)角度的支架; Sidewinder
KRI 霍爾離子源 eH 400 應(yīng)用**域:
• 離子輔助鍍膜 IAD
• 預(yù)清潔 Load lock preclean
• In-situ preclean
• Low-energy etching
• III-V Semiconductors
• Polymer Substrates
1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD **域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

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上海伯東: 羅**生                               臺灣伯東: 王女士
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