超高真空環(huán)境的特征為其真空壓力低于 10-8 至 10-12 torr, 超高真空環(huán)境對于科學研究非常重要, 因為實驗通常要求在整個實驗過程中, 表面應保持無污染狀態(tài)和使用低能電子和離子的實驗技術的使用, 而不會受到氣相散射的過度干擾, 在這樣超高真空環(huán)境下使用電子束蒸鍍可以提供高質(zhì)量的薄膜. 上海伯東代理美國 KRI 考夫曼離子源可以在蒸鍍過程中實現(xiàn)預清潔和輔助鍍膜的作用.


如上圖是超高真空電子束蒸鍍設備, 針對超高真空和高溫加熱設計基板旋轉(zhuǎn)鍍膜機構, 使用陶瓷培林旋轉(zhuǎn), 并在內(nèi)部做水冷循環(huán)來保護機構以確保長時間運轉(zhuǎn)的穩(wěn)定性.

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