起訂量: | 面議 |
價 格: | 面議 |
品牌: | KRI |
供貨總量: | 面議 |
發(fā)貨期限: | 自買家付款之日起 3 天內發(fā)貨 |
所在地: | 上海 |
有效期至: | 長期有效 |
最后更新: | 2023-06-01 09:16 |
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伯東企業(yè)(上海)有限公司 | |
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上海伯東美國 KRi 考夫曼公司大面積射頻離子源 RFICP 380, RFICP 220 成功應用于 12英寸和 8英寸 IBE 離子束蝕刻機, 刻蝕均勻性(1 σ)達到< 1%. 可以用來刻蝕任何固體材料, 包括金屬, 合金, 氧化物, 化合物, 混合材料, 半導體, **緣體, 超導體等.
離子束刻蝕屬于干法刻蝕, 其核心部件為大面積離子源. 作為蝕刻機的核心部件, KRi 射頻離子源提供大尺寸, 高能量, 低濃度的離子束, 接受客戶定制, 單次工藝時間更長, 滿足各種材料刻蝕需求! 氣體通入離子源的放電室中, 電離產生均勻的等離子體, 由離子源的柵極將正離子引出并加速, 然后由中和器進行中和. 利用引出的帶有一定動能的離子束流撞擊樣品表面, 通過物理濺射將材
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