起訂量: | 面議 |
價 格: | 面議 |
品牌: | KRI |
供貨總量: | 面議 |
發(fā)貨期限: | 自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨 |
所在地: | 上海 |
有效期至: | 長期有效 |
最后更新: | 2023-06-02 10:04 |
關(guān)注人數(shù): | 1300 |
伯東企業(yè)(上海)有限公司 | |
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合金化是提高過渡族金屬氮化物薄膜硬度及抗磨損、耐腐蝕性能的有效方法。Al是常用合金化元素,能提高薄膜的硬度和抗高溫氧化性能。
北京某大學(xué)實驗室在對硬韌 ZrAlN 薄膜及薄膜力學(xué)性能研究中, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助磁控濺射沉積的方法在鈦合金和單晶 Si 上沉積不同 Al 含量的ZrAlN 薄膜.
伯東 KRI 射頻離子源 RFICP220 技術(shù)參數(shù):
離子源型號 |
RFICP220 |
Discharge |
RFICP 射頻 |
離子束流 |
>800 mA |
離子動能 |
100-1200 V |
柵極直徑 |
20 cm Φ |
離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
流量 |
10-40 sccm |
通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型壓力 |
< 0.5m Torr |
長度 |
30 cm |
直徑 |
41 cm |
中和器 |
LFN 2000 |
* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量
試驗中, 采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助磁控濺射沉積的方法獲得均勻致密、大面積的 ZrAlN 薄膜, 更好的對 ZrAlN 薄膜進行研究.
KRI 離子源的**特功能實現(xiàn)了更好的性能, 增強的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無法實現(xiàn)的.
因此, 該研究項目才采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFCIP220 輔助濺射沉積工藝.
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機, 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機等進口知名品**的指定代理商.
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