伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 技術(shù)參數(shù):

磁控濺射是物理氣相沉積技術(shù)中一種手段比較豐富的方法, 可以通過控制調(diào)節(jié)鍍膜參數(shù), 得到更加致密, 均勻, 結(jié)合力出色的膜層, 而且磁控濺射屬于干法鍍膜, 不存在電鍍化學(xué)鍍中的鍍液腐蝕基體和廢液污染問題, 從環(huán)境保護(hù)的角度來看, 磁控濺射較電鍍化學(xué)鍍更加綠色環(huán)保.

在釹鐵硼(NdFeB)磁體表面利用磁控濺射沉積不同錳含量的鋁錳合金薄膜. 磁控濺射制備的鋁錳合金薄膜表面光滑致密. 薄膜結(jié)構(gòu)受到錳含量的影響, 當(dāng)薄膜錳含量從6.80at%上升到25.78at%時, 薄膜結(jié)構(gòu)由晶態(tài)逐漸轉(zhuǎn)變?yōu)榉蔷�態(tài), 達(dá)到 35.67%時, 薄膜中析出金屬間化合物Al8Mn5. 鋁錳合金薄膜的耐腐蝕性能受薄膜成分變化的影響很大, 當(dāng)薄膜中錳含量達(dá)到25.78% 時, 此時薄膜呈非晶態(tài)結(jié)構(gòu), 薄膜的自腐蝕電流密度達(dá)到 1.198×10-7A/cm2, 比釹鐵硼基體降低了 2 個數(shù)量級,耐腐蝕性能**好.

KRI 離子源的**特功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能, 增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無法實(shí)現(xiàn)的.

KRI 離子源是**域公認(rèn)的**導(dǎo)者, 已獲得許多專利. KRI 離子源已應(yīng)用于許多已成為行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的過程中.

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計, 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機(jī), 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品**的指定代理商.

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