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KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 制備NGZO薄膜

起訂量: 面議
價 格: 面議
品牌: KRI
供貨總量: 面議
發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
所在地: 上海
有效期至: 長期有效
最后更新: 2023-07-12 11:24
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公司基本資料信息
伯東企業(yè)(上海)有限公司
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  • 品牌:
    KRI
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    自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
  • 所在地:
    上海

上海某大學(xué)實(shí)驗(yàn)室采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 通入氬氣和氮?dú)?/span>, 在流量比分別為 25/10、25/20、25/25、25/30 ((mL/min)/(mL/min))條件下制備 NGZO 薄膜.

 

伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 技術(shù)參數(shù):

型號

RFICP140

Discharge

RFICP 射頻

離子束流

>600 mA

離子動能

100-1200 V

柵極直徑

14 cm Φ

離子束

聚焦平行散射

流量

5-30 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

24.6 cm

直徑

24.6 cm

中和器

LFN 2000

 

實(shí)驗(yàn)室通過 XRD  SEM 對薄膜的物相結(jié)構(gòu)和表面形貌進(jìn)行分析,通過紫外可見分光光度計和霍爾效應(yīng)測試儀對薄膜透過率和載流

聯(lián)系時請說是在機(jī)電商情網(wǎng)看到我的,謝謝!