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KRI 考夫曼射頻離子源成功用于多靶磁控濺射鍍膜機(jī)

起訂量: 面議
價(jià) 格: 面議
品牌: KRI
供貨總量: 面議
發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
所在地: 上海
有效期至: 長期有效
最后更新: 2023-07-17 10:14
關(guān)注人數(shù): 1162
公司基本資料信息
伯東企業(yè)(上海)有限公司
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地區(qū)上海
地址上海市外高橋保稅區(qū)希雅路33號(hào)17號(hào)樓B座3層,200131
  • 品牌:
    KRI
  • 發(fā)貨期限:
    自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
  • 所在地:
    上海

 OEM 廠商為了提高鍍膜機(jī)鍍膜的品質(zhì)其為客戶搭建的多靶磁控濺射鍍膜機(jī)的濺射源采用 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP380, 清洗源采用 KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000, 真空腔體搭配的是伯東 Pfeiffer 渦輪分子泵 HiPace 2300.

 

KRI 射頻離子源 RFICP380 技術(shù)參數(shù):

射頻離子源型號(hào)

RFICP380

Discharge 陽極

射頻 RFICP

離子束流

>1500 mA

離子動(dòng)能

100-1200 V

柵極直徑

30 cm Φ

離子束

聚焦平行散射

流量

15-50 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長度

39 cm

直徑

59 cm

中和器

LFN 2000

 

KRI 霍爾離子源 Gridless eH 3000 技術(shù)參數(shù):

離子源型號(hào)

eH3000

eH3000LO

eH3000MO

Cathode/Neutralizer

HC

電壓

50-250V

50-300V

50-250V

電流

20A

10A

15A

散射角度

>45

可充氣體

Ar, O2, N2, H2, organic precursors, others

氣體流量

5-100sccm

高度

6.0“

直徑

9.7“

水冷

可選

F = Filament; HC = Hollow Cathode; xO2 = Optimized for O2 current

 

渦輪分子泵 HiPace 2300 技術(shù)參數(shù):

  • 型號(hào)

    接口 DN

    抽速 l/s

    壓縮比

    **高啟動(dòng)壓強(qiáng)hPa

    極限壓力

    全轉(zhuǎn)速氣體流量hPa l/s

    啟動(dòng)時(shí)間

    重量

    進(jìn)氣口

    聯(lián)系時(shí)請(qǐng)說是在機(jī)電商情網(wǎng)看到我的,謝謝!