起訂量: | 面議 |
價(jià) 格: | 面議 |
品牌: | KRI |
供貨總量: | 面議 |
發(fā)貨期限: | 自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨 |
所在地: | 上海 |
有效期至: | 長期有效 |
最后更新: | 2023-07-20 16:58 |
關(guān)注人數(shù): | 871 |
伯東企業(yè)(上海)有限公司 | |
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蘭州某研究所在研究 BCx 薄膜的結(jié)構(gòu)特征、力學(xué)性能和摩擦磨損性能試驗(yàn)中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源, 濺射碳化硼靶和石墨靶(純度均為99.9%),在 CrMoAl 齒輪鋼和 Si(100)表面沉積 BCx 薄膜
伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 技術(shù)參數(shù):
型號(hào) |
RFICP140 |
Discharge |
RFICP 射頻 |
離子束流 |
>600 mA |
離子動(dòng)能 |
100-1200 V |
柵極直徑 |
14 cm Φ |
離子束 |
聚焦, 平行, 散射 |
流量 |
5-30 sccm |
通氣 |
Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他 |
典型壓力 |
< 0.5m Torr |
長度 |
24.6 cm |
直徑 |
24.6 cm |
中和器 |
LFN 2000 |
試驗(yàn)結(jié)論:
相同的沉積時(shí)間內(nèi), BCx 薄膜的厚度隨石墨靶電流的增加逐漸增大, 硬度、彈性模量逐漸降低,微觀形貌的柱狀結(jié)構(gòu)特征越來越明顯;增加石墨靶電流可以提高BCx薄膜的摩擦學(xué)性能, 當(dāng)石墨靶電流為 2.4A 時(shí), BCx 薄膜的摩擦因數(shù)穩(wěn)定在 0.2 左右, 且具有**佳的耐磨性能。
KRI 離子源的**特功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能, 增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性, 而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無法實(shí)現(xiàn)的.
KRI 離子源是**域公認(rèn)的**導(dǎo)者, 已獲得許多專利. KRI 離子源已應(yīng)用于許多已成為行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的過程中.
伯東是德國 Pfeiffer 真空泵, 檢漏儀, 質(zhì)譜儀, 真空計(jì), 美國 KRI 考夫曼離子源, 美國HVA 真空閥門, 美國 inTEST 高低溫沖擊測試機(jī), 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品**的指定代理商.
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