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考夫曼射頻離子源RFICP140應(yīng)用于AlTiN涂層研究

起訂量: 面議
價(jià) 格: 面議
品牌: KRI
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發(fā)貨期限: 自買家付款之日起 3 天內(nèi)發(fā)貨
所在地: 上海
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最后更新: 2023-08-29 11:05
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伯東企業(yè)(上海)有限公司
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    上海

四川某大學(xué)實(shí)驗(yàn)室研究靶電流, 偏壓、沉積時(shí)間等各試驗(yàn)工藝參數(shù)對(duì)兩組試樣 AlTiN 涂層力學(xué)性能的影響旨在找出能夠鍍制**良性能涂層的**佳工藝方案的項(xiàng)目中采用伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 作為濺射源.

 

伯東 KRI 考夫曼射頻離子源 RFICP140 技術(shù)參數(shù):

型號(hào)

RFICP140

Discharge

RFICP 射頻

離子束流

>600 mA

離子動(dòng)能

100-1200 V

柵極直徑

14 cm Φ

離子束

聚焦平行散射

流量

5-30 sccm

通氣

Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

典型壓力

< 0.5m Torr

長(zhǎng)度

24.6 cm

直徑

24.6 cm

中和器

LFN 2000

 

AlTiN 涂層具有高抗氧化性良好熱硬性摩擦系數(shù)低與基體之間結(jié)合力強(qiáng)耐磨性強(qiáng)等**點(diǎn)因此AlTiN涂層在機(jī)械加工行業(yè),尤其是在刀具**域,一直是研究的熱點(diǎn).

 

KRI 離子源的**特功能實(shí)現(xiàn)了更好的性能增強(qiáng)的可靠性和新穎的材料工藝. KRI 離子源已經(jīng)獲得了理想的薄膜和表面特性而這些特性在不使用 KRI 離子源技術(shù)的情況下是無法實(shí)現(xiàn)的.

 

KRI 離子源是**域公認(rèn)的**導(dǎo)者已獲得許多專利. KRI 離子源已應(yīng)用于許多已成為行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)的過程中.

 

伯東是德國 Pfeiffer 真空泵檢漏儀質(zhì)譜儀真空計(jì)美國 KRI 考夫曼離子源美國HVA 真空閥門美國 inTEST 高低溫沖擊測(cè)試機(jī)美國 Ambrell 感應(yīng)加熱設(shè)備和日本 NS 離子蝕刻機(jī)等進(jìn)口知名品**的指定代理商.

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